超纯水的本质与核心标准
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超纯水（UPW）是经反渗透、电去离子、紫外杀菌及超滤等工艺极致纯化的“液态黄金”。
其核心标准包括：
电阻率≥18.2 MΩ·cm（25℃），近乎绝对绝缘，杜绝离子污染；
颗粒物≤1个/mL（＞0.1μm），相当于每立方米尘埃少于5粒；
总有机碳（TOC）＜1 ppb，防止高温碳化破坏芯片结构；
金属离子（Na/K等）＜0.1 ppt，一泳池水仅容几毫克杂质，避免可动离子污染（MIC）；
生产成本超普通水20倍（≥10美元/立方米），是先进制程的生命线。
超纯水的不可替代性
02
芯片厂60%的UPW用于晶圆清洗，要求污染物清除精度≤0.5nm（原子层级）。在湿法刻蚀中，UPW稀释蚀刻液，其氯离子超标＞5ppt将腐蚀铜电路；CMP工艺依赖UPW高压冲洗纳米磨料残留，＞0.1μm颗粒会导致晶圆划伤；电镀工艺要求UPW溶氧量＜2ppb（氮气鼓泡），否则铜柱内形成氧化空洞。
半导体化学品的分类与纯度
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高纯单组分试剂（如电子级HF、H₂SO₄、NH₄OH）
需满足 SEMI C12标准（金属杂质≤10ppt），否则引发栅极漏电；
功能性配方化学品
CMP抛光液需粒径一致性σ＜0.05，防止研磨不均；
光刻胶及试剂经0.1μm过滤，避免193nm激光散射；
电镀液有机杂质＜1ppb，否则TSV通孔空洞；
刻蚀液浓度波动需＜0.1%，保障自限制刻蚀精度。
半导体测量超纯水和化学品流量核心关注三个方面
无污染风险 01 采用非接触外夹式超声波时差法（Time-of-Flight, TOF）技术，通过管壁外部耦合传感器发射/接收高频声波（0.1-5MHz），依据顺逆流声波传输时差计算介质流速。该技术从根本上规避传统接触式流量计（如电磁式、涡街式、涡轮式）的污染风险： 无破管需求：无需破坏管路完整性，消除机械接触导致的颗粒脱落风险； 介质零接触：超声波传感器与超纯水/化学品完全物理隔离，杜绝溶出金属离子（如Ni、Cr污染）。 耐腐蚀避免泄露 02 结构安全性 FM800、FM700外夹式安装避免了破管，安装使用不会改变原来管路的结构，保留原始管路力学性能，避免焊接/法兰连接处的应力腐蚀开裂（SCC）风险； 材料相容性 管材适配：覆盖不锈钢316L、哈氏合金C276、PFA特氟龙、PTFE聚四氟乙烯及硅胶软管； 介质兼容：适用于超纯水（UPW）、氢氟酸（HF）、双氧水（H2O2）、TMAH显影液等强腐蚀介质。 产品稳定可靠 03 FM800产品可以覆盖1/8’’~1’’的各类管径和宽流量范围，可以很好地解决小流量和大流量的精准监测； 产品流量精度可以做到±2%R.D.,量程比可达25：1；同时兼具温度测量功能，可以通过超声波直接测量介质的实际温度，区别于传统的温度探头，测量精度可以高达±0.5℃，是传统测量方式精度的10倍，响应时间可以达到ms级，是传统测量方式的1000倍； 产品的计量溯源标准系统是佰控完全自主开发，且得到计量认证，精度高达0.05%R.D.，通过世界级的设计要求和生产工艺，保证产品的稳定和可靠。
